不用光刻机如何制造 5nm 芯片？

  这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？

  而这，差评君就必须先帮佳能找补几句了，其实一直以来，佳能在芯片制造设备上都有布局，隔壁的尼康也是一个样。

  不过目前光刻机的顶尖技术一直都被 ASML 独占，佳能眼看追不上，于是在研究光刻机的同时，又找了另外一条赛道：纳米压印。

  src=这次新闻的主角，也正是这个 纳米压印 技术，反正消息一出，吃瓜群众们的反应是最热烈的。

  像是什么光刻机即将被取代，纳米压印战未来 ASML 这下要慌了，被换赛道超车了 。。。各种讨论看得人一片沸腾，好像光刻机这玩意儿，以后只能在废品回收站里看到了似的。

  src=首先这些年来，光刻机的发展已经逐渐走到一个瓶颈期，芯片制程的进步速度，也肉眼可见得变慢。

  没有对比就没有伤害，反观发展至今才二十多年的纳米压印技术，却是一个 快 字了得，噌噌几年就快要赶上光刻机的进度了。

  并且，新的纳米压印技术和光刻机相比，不但成本也降了，甚至制造工艺也贼简单，更适合大规模生产。

  src=这么说吧，用光刻技术造芯片，总成本要是十块，光刻技术就得花三块，时间成本也占到总成本的一半。

  对比之下，用纳米压印技术能省掉将近三成的成本，要是晶圆吞吐量再提升一点，直接就能节省一大半的成本。

  src=更重要的是，纳米压印技术的工艺格外的简单，跟盖章一样，像下图这种印章各位差友们应该都见过或者玩过吧。

  然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章、等待凝固、脱模就 OK 了。

  src=在造印章、盖章的过程中，都不用替换工具，一个 喷头 就能搞定，期间只要换掉里面的材料。

  而隔壁需要折来折去的 EUV 光刻技术，不仅要一个庞大的透镜阵列来控制光线，并且要产生这个波长极短的极紫外光，还得大功率支撑着。

  src=这样对比之下，纳米压印技术简直是集能耗小、工艺简单、设备轻便等优点于一身，不少人都认为这会是最大有可能替代 EUV 光刻的技术。

  src=而且如今，纳米压印技术也已发展出了不少分支，光是压印方式就有三种：热压印、紫外压印和微接触压印，其中紫外压印常用在芯片制造中，在紫外光的照射下，压印胶很容易凝固脱模。

  这些工艺，除了造芯片之外，还能用在 LED 、 OLED 、 AR 设备中。

  从 2004 年开始，上面我们提到的佳能，就开始悄悄研究起了纳米压印。2014 年它收购了美国的一家纳米压印公司 Molecular Imprints （ 分子压模 ），正式公开宣布进入纳米压印市场。

  src=后来，它还和东芝（ 现在的铠侠 ）合作，准备用纳米压印技术造 3D NAND 闪存，三星在买 EUV 设备的同时，也还在着手进行纳米压印技术的研发。

  就连 SK 海力士也从佳能那边买了纳米压印设备，准备搞 3D NAND 闪存生产测试，并计划在 2025 年实现大规模量产。

  src=到时候，用纳米压印技术造 DRAM 、 CPU 等芯片自然也就不远了。

  在国内，纳米压印的市场也是发展得火热，不少高校像复旦、北大等都有相关的研究。前几天佳能官宣自家的纳米压印设备之后，还顺带拉动了国内相关概念股，汇创达盘中一度涨超 14% 。

  或许未来有一天，光刻机也会迎来这样的角色转变，到时候，说不定芯片制造业，已完成了新一轮的革新。