14nm！中国芯片达到国际标准不再需要EUV受制于人成为过去

  据新京报报道称，中国的14纳米芯片已达到国际标准投入量产。随着中国N+1技术的不断推进，中国的芯片生产也不再需要EUV，半导体行业更是风生水起，受制于人的时代慢慢的变成了过去。

  自改革开放以来，中国也加速推进了现代化进程，但是中国的半导体行业一直存在技术上的短板，芯片更是一直依赖于欧美国家。随着美国近年来对中国的打压和制裁手段越来越强硬，近期更是颁布了政策，联合西方国家禁止对中国在芯片的出口，中国的多个企业也是受到了极大的冲击，半导体行业更是遭到了前所未有的瓶颈。中国不得不踏上一条自主研发的道路。为了可以早日满足市场需求实现自给自足，中国具备芯片生产的企业全部都联合起来，一同面对此次的困境。

  中国还对此出台了相应的政策，鼓励中国半导体芯片产业的发展，不仅减免了该领域的税收，还提供了人才和资金方面的支持。甚至还对此下达了命令，要求在5年后可以在一定程度上完成中国芯片自产达到7成以上。这对我们来说是一次挑战也是一次机遇，若不是美国的制裁，中国的半导体制造业也不会发展的如此迅猛，在压力之下迸发出新的活力。

  中国近期完成了技术上的突破，中芯国际推出的N+1芯片更是在技术上有了重大变革，不再需要用EUV。要知道美国不仅禁止了芯片出口连同光刻机也禁止了。中国的困境也随着N+1芯片的推出迎刃而解。据了解N+1计划目前还在不断推进，而14nm已确定进入量产，水平目前也达到了国际规定。今后也将继续提升技术方法提高市场竞争力，以此来吸引更加多的国内外客户来投资。现如今中国的芯片性能在各方面都得到了升级优化，在功耗上也是大大减小了。

  同样中国中科院也响听国家的号召，开始对光刻机进行技术上的攻坚，虽然中国的技术和国外顶级光刻机还有很大的差距，但是发展已见雏形。中科院官网此前也发布了一个论文，论文表示目前中科院研究的光刻技术在405nm波长的激光实现了重大技术突破，目前也已经俱备了5nm的线宽工艺。这也代表着中国的光刻机技术从理论到商业上的转化，相信再过不久就能看到更多的成果。中国的光刻机也将上一个新台阶。

  事实上，美国对中国半导体行业实行封锁后，慢慢的变多的美国媒体对此表示深深的担忧，虽然美国在某些特定的程度上影响了中国的产业高质量发展，但是中国的发展势头更是出乎他们意料。美国此前的脱钩计划以及此次对中的政策目的是为了巩固自身的地位，让制造业发展重新流回美国，但是多个方面数据显示和他们说的完全相反，大量的企业反而在不断的外流，其中就包括了半导体行业。按照这样的发展的新趋势，美媒也是对此坦言中国在十年后很有一定的概率会超越美国，成为半导体制造大国。

  中国作为人口大国，制造业本就发达。随着中国在半导体行业的不停地改进革新突破，国家政策的全力支持。中国在该行业上的福利待遇更是远高于美国和西方国家的采取的大规模税收政策。久而久之芯片制造业的发展也会逐步向亚洲转移，美国已经阻挡不了亚洲地区芯片制造业的发展。