ASML宣布光刻机技术再次突破

  生产过程中不可或缺的设备之一，并且越高端的芯片对光刻机要求也越高。而在目前光刻机市场上，来自荷兰的光刻机设备制造商ASML，是唯一一家能够生产极紫外光刻的企业，这令ASML在整个

  ASML对比日韩光刻机企业，在技术方面已经建立起不少的一马当先的优势，在某一种意义上，ASML慢慢的变成了推动半导体产品工艺升级的重要力量。近日，ASML就传来新消息，据悉，公司正在积极研发高孔径数值紫极外光刻机——NXE：5000，并且设计已经基本完成。

  根据外国媒体报道，NEX：5000光刻机将在2022年开始商用，相比目前正在被台积电普遍的使用的EUV光刻机，新设备在技术上将再次迎来突破，将帮助芯片制造商继续缩小工艺规模，提高芯片光刻效率和成功率，节约成本。

  根据官方公布的信息，NEX:5000的光刻机将能够适用于生产1nm处理器。相比上一代产品，进步明显。

  要知道目前最尖端芯片工艺还停留在5nm水准，按照摩尔定律推算，1nm工艺芯片出现大概率要等到2026年，甚至更久。而ASML在当前就已经为六年后的技术做好了准备，实力可见一斑。

  ASML新设备设计完成消息传出后，最开心的当属台积电，两家厂商从始至终保持着亲密的合作伙伴关系，台积电也是ASML最大的客户。后者提前完成新设备设计，有助于台积电加快工艺升级步伐，继续在半导体代工领域保持领先地位。

  但除了喜，台积电也有“忧”。台积电的问题就在于ASML新设备售价太高，根据外国媒体报道，ASML新设计的NEX：5000光刻机价格会定在30亿左右。台积电虽然是全球第一大芯片代工厂，营收和利润在代工市场都是独一无二的存在，但相比背后有财团支持的三星，却仍有较大差距。

  30亿一台的价格注定台积电无法像购买EUV光刻机一样，进行批量采购。而对于三星而言，这正是反超台积电的好机会，只要新设备采购数量超越台积电。三星半导体工厂就能获得更大产能，吸引到更多用户，台积电代工一哥地位或将就此不保。

  Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲

  Twinscan NXE:3800E 完成安装 /

  传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息，这令业界哗然。据悉，荷兰政府为阻止这一有几率发生的变故，已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划”特别工作组。

  激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。

  。中国方面对此感到不满，认为这是对其科学技术进步的不公平限制。显然，我们正站在一场关于

  将向中国推出“版”DUV***？？ /

  将在6月底或7月初实施出口管制，限制多款DUV高端型号设备的出货，其中包括

  现在用交流通过整流滤波稳压之后的电压（正负电压），直接给运放进行供电，实现不了。在PSPICE中仿线 阅读

  【Vision Board创客营连载体验】RA8D1 Vision Board 实现 FAL 同时调用片上以及外挂 Flash