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晶合集成取得实用新型专利授权:“一种晶圆的槽式清洗设备及半导体机台”
来源:开云官方地址入口      发布时间:2024-04-04 17:08:42      


晶合集成取得实用新型专利授权:“一种晶圆的槽式清洗设备及半导体机台”


  证券之星音讯,依据企查查多个方面数据显现晶合集成(688249)新取得一项实用新型专利授权,专利名为“一种晶圆的槽式清洗设备及半导体机台”,专利申请号为CN0.0,授权日为2024年3月1日。

  专利摘要:本实用新型供给一种晶圆的槽式清洗设备及半导体机台,槽式清洗设备包含:箱体;多个挡板,设置于所述箱体内,以使所述箱体构成多个密封腔;多个支撑架,设置于所述密封腔内,以盛放晶圆;管道,与每个所述密封腔衔接,以进行药液注入;水槽,以对所述箱体内药液刻蚀后的所述晶圆进行收拾洗刷;以及枯燥槽,以对所述水槽清洗后的所述晶圆进行枯燥。本实用新型可解决槽式清洗存在的穿插污染问题,从而提高晶圆产品的良率。

  今年以来晶合集成新取得专利授权36个,较去年同期增加了38.46%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研制方面投入了5.02亿元,同比增27.46%。

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