2020年我国光刻机工业高质量开展现状和竞赛剖析

  光刻机又叫：掩模对准曝光机，曝光体系，光刻体系等，是制作芯片的中心配备。它选用相似相片冲印的技能，把掩膜版上的精密图形经过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体工业中最关键设备，光刻工艺决议了半导体线路的线宽，一起也决议了芯片的功能和功耗。

  光刻机工业的上游最重要的包括光刻机中心组件和光刻机配套设备，下流则首要运用在于半导体／集成电路的制作与封装。

  从方针环境上来看，我国关于光刻机职业较为注重。其首要体现在关于整个IC工业链企业的方针优待以及关于半导体设备职业的相关规划与推进。其首要体现在资金方面的补助和人才方面的培育，以及进出口，投融资方面的方针扶持。

  在各项方针中较为杰出的是《极大规划集成电路制作配备及成套工艺》项目（02专项），其以专项的方式组织了一批国内光刻机公司进行了一系列要点工艺和技能的攻关，有用促进了我国光刻机职业的开展。