光罩检测设备研究陈述-估计2029年全球商场规模将到达165亿美元

  光掩膜又称光罩，是微电子制作中光刻工艺所运用的图形母版，由不通明的遮光薄膜在通明基板上构成掩膜图形，并经过曝光将图形转印到产品基板上。假如掩模具有缺点，则可能会在晶圆上印刷不规则。因而，捕获掩模缺点很重要。

  据调研团队最新陈述“全球光罩检测设备商场陈述2023-2029”显现，估计2029年全球光罩检测设备商场规模将到达16.5亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为3.3%。

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